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产品总数：23
台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD
简介:台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，MoorfieldNanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等多所大学科研团队的具体需求，经过不懈努力推出了台式高性...
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高精度薄膜制备与加工系统-MiniLab
简介:MoorfieldNanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统-MiniLab是英国MoorfieldNanotechnology公司经过多年技术积累...
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台式高精度薄膜制备与加工系统
简介:台式高精度薄膜制备与加工系统MoorfieldNanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，...
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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
简介:微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD）,通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司的CYRANNUS等离子技术解决...
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多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM
简介:多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是MoorfieldNanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台，满足各种高精度的喷金或电生长需求。除了溅射金属电外，nanoEM还具有大的拓展空间，虽然作为台式设备，nanoEM配备了输...
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台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL
简介:台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL可用于二维材料以及衬底、样品在特定氛围中的高精度热处理，也可用于其他有高精度热处理要求的方向。MoorfieldNanotechnology将样品、衬底等材料的热处理上升到与纳米材料的制备同样的技术高度。通过的...
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台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH
简介:台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，MoorfieldNanotechnology与...
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台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD
简介:台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVDNanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖科研团队的长期合作中获得的丰富经验使该系列产品具有非常高的性能。特别是针对石墨烯、碳纳米管等不同的应用进行了针对性的优化。该...
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新一代高性能激光浮区法单晶炉
简介:新一代高性能激光浮区法单晶炉-LFZQuantumDesignJapan公司推出的高温光学浮区法单晶炉，采用镀金双面镜、高反射曲面设计，高温度可达2100℃-2200℃，系统采用冷却节能设计（不需要额外冷却系统），稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......应用领域可广泛用于凝聚态物理、化学...
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电弧等离子体沉积系统
简介:电弧等离子体沉积系统日本ADVANCERIKO公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化，产生高能离子并沉积在基底上，制备纳米薄膜镀层或纳米颗粒。电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量，可以在1.5nm到6nm范围内控制纳米颗粒直径，活性好，产量高。多...
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美国Thermal Technology实验室真空高温炉
简介:实验室真空高温炉设备简介美国ThermalTechnology高温炉适用于各种实验室应用及小规模生产。操作简单，性能稳定。高可定制温度达3000℃。设备特点*丰富加热原件可供选择*高温度可达3000°C*可实现超高真空*可实现Ar/N2/O2/H2等多种气氛环境应用领域美国ThermalTechnology高温炉可用...
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电弧熔炼炉-Model BJ5
简介:电弧熔炼炉产品简介美国ThermalTechnology的BJ5电弧熔炼炉可以有效的应用于粉末熔炼、电弧铸造，金属和非金属、化合物材料的合成和致密化处理。BJ5电弧熔炼炉操作方便，可靠性高，通用性强，同时提供的超高温和其纯净的熔炼环境。用于高纯度熔炼：因为其简单、易用的内部结构，BJ5...
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自动热处理炉 / 陶瓷热处理炉
简介:美国ThermalTechnology自动热处理炉(APFAutomaticProcessingFurnacesystems)与陶瓷热处理炉(CPFCeramicProcessingFurnacesystems)可实现全自动、无人值守操作，高可定制温度达2500℃。工件热处理循环时升温速率100℃/min，降温速率可达300℃/min。氢气炉/高真空炉可选。可在炉顶与...
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自动热处理炉 / 陶瓷热处理炉
简介:自动热处理炉/陶瓷热处理炉美国ThermalTechnology自动热处理炉(APFAutomaticProcessingFurnacesystems)与陶瓷热处理炉(CPFCeramicProcessingFurnacesystems)可实现全自动、无人值守操作，高可定制温度达2500℃。工件热处理循环时升温速率100℃/min，降温速率可达300℃/min。氢气炉...
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TT 放电等离子烧结炉-SPS/DCS
简介:近年来直流型SPS加工技术（DirectCurrentSintering）得到广泛的研究和推广，这种新型的SPS技术采用直流电源系统，简化了系统的复杂性，同时也大大降低了硬件成本。另外相较于脉冲电流，直流电源系统可以无间断的在样品内产生内热，因此大大的压缩了加工时间。近年，美国ThemralTec...
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美国Thermal Technology公司热压炉
简介:热压炉热压炉HP200LinktoMSUFall2007article热压炉HP20Linktomodelspecs扩散粘结用热压炉：工作温度1450℃，压力100吨，钼热区单元24''X24''X30''系统尺寸：15'(L)X9.5'(W)X12.2'(H)Linktopressrelease碳化硅SiC热压炉型号压力/吨位样品空间（英寸）HP2210tonsФ4X4(H)HP5225tons
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四电弧高温单晶生长炉
简介:四电弧高温单晶生长炉日本GES公司生产的四电弧高温单晶生长炉，采用电弧放电的高温材料合成方法，非常适合生长化学性质活跃但熔点高（一般在3000摄氏度左右）的金属间化合物，包括含有稀土元素（或者金属铀）的二元及四元金属间化合物，例如UGe2,UPt3,V3Si,URu2Si2,RE2Co17,CePd2A...
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激光加热基座晶体生长炉
简介:激光加热基座晶体生长炉法国Cyberstar公司生产的激光加热基座晶体生长（Laser-heatedpedestalgrowth,LHPG）是在提拉法晶体生长基础上发展起来的、一种以激光为热源的无坩埚单晶纤维生长工艺，因局部熔化特性，亦可称其为浮区熔化晶体生长。激光加热基座晶体生长炉（LHPG）具有无坩...
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