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TEM用纯硅薄膜窗

TEM用纯硅薄膜窗

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详细说明

名称:TEM用纯Si薄膜窗
编号:TEM
产品详情:
TEM用纯Si薄膜窗


纯硅薄膜窗特点

纳米级厚度:薄膜厚度为5-15nm,比目前无定形碳薄膜窗口还薄,为高倍成像减少了背景干扰;
清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量;
均匀性:减少了不同区域的不均匀性;
稳定性:高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous);
减少污染:彩色污染仅为C膜的一半;
纳米孔:为纳米尺寸材料提供稳定的成像,无背景干扰;
Si成分:溅镀沉积、纯的Si;
最小的背景信号:可对含Ni或C样品进行元素分析;


纯硅薄膜窗规格

单窗口系列

窗口类型
薄膜厚度
窗口尺寸
框架尺寸
框架厚度
TEM用纯硅薄膜窗
5nm
25x25μm
Φ3mm
100μm
TEM用纯硅薄膜窗
30nm
500x500μm
纳米孔10-60nm
Φ3mm
100μm

多窗口系列

窗口类型

薄膜厚度

窗口尺寸

框架尺寸

框架厚度

TEM用纯硅薄膜窗

5nm

2x1阵列,50X1500μm

Φ3mm

100μm

9nm

/15nm

2x1阵列,100X1500μm

Φ3mm

100μm

5nm

2x1阵列,100X100μm

Φ3mm

200μm

9nm

/15nm

2x1阵列,100X1500μm

Φ3mm

200μm

TEM用纯硅薄膜窗

5nm

3x3阵列,8个窗口50X50μm,1个窗口50X100μm

Φ3mm

100μm

5nm

/9nm

3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm

Φ3mm

100μm

9nm

3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm

Φ3mm

200μm

15nm

3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm

Φ3mm

100μm

30nm

3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm;纳米孔10-60nm

Φ3mm

100μm

TEM用纯硅薄膜窗

15nm

3x3阵列,窗口100X100μm

Φ3mm

200μm