上海昭沅仪器设备有限公司

 TEM用纯硅薄膜窗
  • TEM用纯硅薄膜窗
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    参考价格: ¥0.00
    所在地区:上海
    上架时间:2012年08月30日
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    详细说明

    名称:TEM用纯Si薄膜窗
    编号:TEM
    产品详情:
    TEM用纯Si薄膜窗


    纯硅薄膜窗特点

    纳米级厚度:薄膜厚度为5-15nm,比目前无定形碳薄膜窗口还薄,为高倍成像减少了背景干扰;
    清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量;
    均匀性:减少了不同区域的不均匀性;
    稳定性:高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous);
    减少污染:彩色污染仅为C膜的一半;
    纳米孔:为纳米尺寸材料提供稳定的成像,无背景干扰;
    Si成分:溅镀沉积、纯的Si;
    最小的背景信号:可对含Ni或C样品进行元素分析;


    纯硅薄膜窗规格

    单窗口系列

    窗口类型
    薄膜厚度
    窗口尺寸
    框架尺寸
    框架厚度
    TEM用纯硅薄膜窗
    5nm
    25x25μm
    Φ3mm
    100μm
    TEM用纯硅薄膜窗
    30nm
    500x500μm
    纳米孔10-60nm
    Φ3mm
    100μm

    多窗口系列

    窗口类型

    薄膜厚度

    窗口尺寸

    框架尺寸

    框架厚度

    TEM用纯硅薄膜窗

    5nm

    2x1阵列,50X1500μm

    Φ3mm

    100μm

    9nm

    /15nm

    2x1阵列,100X1500μm

    Φ3mm

    100μm

    5nm

    2x1阵列,100X100μm

    Φ3mm

    200μm

    9nm

    /15nm

    2x1阵列,100X1500μm

    Φ3mm

    200μm

    TEM用纯硅薄膜窗

    5nm

    3x3阵列,8个窗口50X50μm,1个窗口50X100μm

    Φ3mm

    100μm

    5nm

    /9nm

    3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm

    Φ3mm

    100μm

    9nm

    3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm

    Φ3mm

    200μm

    15nm

    3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm

    Φ3mm

    100μm

    30nm

    3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm;纳米孔10-60nm

    Φ3mm

    100μm

    TEM用纯硅薄膜窗

    15nm

    3x3阵列,窗口100X100μm

    Φ3mm

    200μm