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 多靶磁控溅射镀膜机 型号:YQDH-500JJC
  • 多靶磁控溅射镀膜机 型号:YQDH-500JJC
  • 多靶磁控溅射镀膜机 型号:YQDH-500JJC

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    适用范围:全领域
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    上架时间:2018/12/28 9:44:21
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    多靶磁控溅射镀膜机 型号:YQDH-500JJC 货号:ZH5498
    产品简介
      该镀膜机主要用于科研实验,可制备纳米级和微米级的单层及多层工能膜-各种硬质膜,光学膜,金属膜,铁磁薄膜,半导体膜,介质膜和氧化物薄膜等多种薄膜。
      该镀膜机为前开门式设计,功能强,镀膜质量稳定,重复性好,操作简便。真空室材料均采用优良材SUS304不绣钢材料制造,工艺规范,精致,保证了材料的成膜纯度。
      采用分子泵+直联机械泵机组,具有抽速快,无油,操作方便快捷,易于维护的特点。
    1     镀膜方式:可实现多靶共溅模式
    2     磁控靶:圆柱/平面靶;
    3     进气系统:三路质量流量计;
    4     镀膜室体积:500×500×600mm3
    5     极限真空度:6.7×10-5Pa; 恢复真空度:从大气抽到6.7×10-4Pa;﹝40分钟﹞
    6     真空抽气系统:机械泵与分子泵组成;
    7     真空测量系统:数显复合真空计;
    8     工作电源:真流电源500W;射频电源500W﹝13.56MHz﹞;加热控温电源;
    9     工作烘烤温度:室温~800℃可控可调﹝PID控温﹞;
    10    选配件:石英晶振测厚仪,冷却水机组等;
    11    供电电源:三相AC380V,50Hz
    多靶磁控溅射镀膜机 型号:YQDH-500JJC