北京德仪天力科技发展有限公司

 电子束蒸发真空镀膜系统
  • 电子束蒸发真空镀膜系统
  • 电子束蒸发真空镀膜系统

    参考价格: ¥1500000.00
    品  牌:DE
    产品型号:DE400ET
    适用范围:高教
    所在地区:北京
    上架时间:2018年06月13日
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    详细说明

    电子束蒸发真空镀膜系统

    Configuration

    主要配置

     

    , ,

    Evaporation Chamber

    蒸发腔体

    304 stainless steel chamber with viewport

    蒸发腔体为304不锈钢,并有观察窗

    Vacuum Pumping

    真空泵

    Cryo-pump or Turbo pump and dry rough pump

    蒸发室配备分子泵和无油机械泵

    Vacuum Valve

    真空阀门

    Pneumatic UHV gate valves

    气动控制超高真空插板阀

    Evaporation Source

    蒸发源

    Multi pocket e-beam source

    多坩埚电子束蒸发源 

    Substrate Chamber

    样品室&am, p;a, , m, p;, amp;, amp;, lt;, /SPAN>

    304 stainless steel chamber with viewport

    蒸发腔体为304不锈钢,并有观察窗

    Sample Stage 

    样品台

    Side mount polar Substrate

    侧面安装的转角样品台

    Film Control

    膜厚检测

    Crystal Film thickness Monitor and Control 

    晶振膜厚监控

    Vacuum Gauging

    真空测量

    Wide range vacuum gauge and rough gauge

    宽量程真空计用于测量真空和粗抽计

     

    Specification

    主要技术指标

    The Base Vacuum Pressure

    极限真空度

    better than 9E-9 Torr

    优于9E-9托

    Sample Loading Capacity

    装样能力

    One Max. 4 inch flat substrate

    一个最大4英寸的平板基片

    Rate Resolution

    蒸发速率分辨率

    0.05 Angstroms/sec

    Thickness Resolution = 0.02 Angstroms

    膜厚分辨率

    0.02 Angstroms

     

     

    Features

    特点

       

    Unique Design of Substrate Chamber and Sources chamber isolated by UHV gate valve

    独特的结构设计,基片腔体和蒸发源腔体通过UHV门阀隔开

     

    All Metal Seal, True UHV System 

    系统采用全金属密封,真正的超高真空系统 

     

    Stand along system frameworks and electric rack

    独立的系统机架和电器柜

     

    E-beam source Water Interlock

    电子束蒸发源冷水安全互锁

     

    Optional Substrate Cooling

    样品台可选水冷

     

    Typical Application 

    典型应用 

     

    For R&D Thin Film Deposition 

    用于薄膜沉积研发

     

    Ideal tools for LIFT-OFF process

    用于LIFT-OFF工艺的理想平台

     

    Ideal tools for GLAD process

    用于GLAD工艺的理想平台

     

    Evaporate metal, Semiconductor or Insulation Materials (material depends)

    可蒸发金属,半导体或介质材料(视具体材料而定)

     

    Evaporate Magnetic Materials

    可蒸发磁性材料

    LOAD LOCK预真空进样室(可选)

     

    产品技术优势:

     

    DE400 E-BEAM EVAPORATOR 电子束蒸发仪的极限真空度可达≤ 5.0×10-9Torr
     
    抽至1E-6Torr的时间约为15分钟,抽至5E-7Torr的时间约为30分钟
     
    关机100小时后的真空度可保持在7.5E-3Torr
     
    可蒸发镍、钴、铁磁性材料
     
    工如通入反应气体,则工作气压稳定性优于0.25%,观察不到压力漂移