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“泽泉科技技术进步奖”表彰会在上海召开

教育装备采购网 2008-12-01 17:12 围观700次


        2008年12月1日,在泽泉科技上海总部召开了“泽泉科技技术进步奖”表彰会,泽泉生态开放实验室技术工程师舒展因其在《Functional Plant Biology》(2008,35: 714-724)上发表论文“Enhanced sensitivity of Arabidopsis anthocyanin mutants to photooxidation: a study with fluorescence imaging”而获得“泽泉科技技术二等奖”,并获得奖金3000元。



    “泽泉科技技术进步奖”是泽泉科技为鼓励技术人员积极参与科研工作而设计的奖。凡是泽泉科技员工利用泽泉科技的仪器设备,独立或与其它合作单位合作进行的研究发表的高水平成果,均会得到不同程度的奖励。如果是发表在《Plant Cell》、《Plant Physiology》、《Limnology & Oceanography》等著名期刊上的文章,将会获得上万元的重奖。

    泽泉科技做为植物、土壤、气象、海洋与淡水领域知名的仪器设备与解决方案提供商,为国内科研和监测单位引进了大量国际先进设备,并提供完善的技术支持和集成服务。泽泉科技服务的用户都是各领域的专家,这就要求泽泉科技的技术人员要有较高的技术水平和科研能力。“泽泉科技技术进步奖”的设立和泽泉生态开放实验室的成立对于提高泽泉科技的技术水平、更好的为广大客户服务发挥了极大的促进作用。

附录
1)获奖论文简介

    该文利用大探头调制叶绿素荧光成像测量系统MAXI-IMAGING-PAM研究了甲基紫精(MV,5 μmol L-1)诱导的光氧化胁迫条件下,三种拟南芥花色素苷缺失突变体(tt3, tt4 tt3tt4)及其野生型(Ler)叶片叶绿素荧光成像和抗氧化能力的变化。与野生型(WT)相比,光氧化处理导致三种突变体总酚、类黄酮含量显著下降,总抗氧化能力降低,叶绿素荧光参数(Fv/Fm、qP、φPSII、NPQ和ETR )降低,膜渗透率增加。四种表型拟南芥叶片对光氧化处理的敏感性大小顺序表现为:tt3tt4 (缺失 CHS 和 DFR基因) > tt4 (缺失 CHS基因) > tt3 (缺失 DFR基因) > WT。在270 min处理过程中,qP, φPSII 和 ETR呈现出降低→升高→降低的变化趋势,这表明植物可能是通过PSII的可逆调节来应对短期的氧化胁迫(< 150 min);但随着处理时间的延长,胁迫程度的加剧,PSII损伤加重。结果表明:叶片中的花色素苷,与其它的类黄酮、总酚等抗氧化剂一起协同抵御光氧化胁迫,从而减轻了其对植物光合机构的损伤。


上图为甲基紫精(MV,5 μmol L-1)诱导的光氧化胁迫过程中(270 min),四种表型拟南芥叶片Fv/Fm荧光成像颜色的变化

2)调制叶绿素荧光成像测量系统IMAGING-PAM介绍

    传统的光纤型荧光仪只能测量叶片上一个点的光合作用,而IMAGING-PAM可以测量全叶片上每个像素的光合作用。IMAGING-PAM采用超强发光LED作为光源,保证叶片表明受光均匀且光强足够强;IMAGING-PAM采用CCD作为检测器,能检测叶片上每个像素的光合作用;IMAGING-PAM秉承了WALZ公司PAM系列荧光仪的一贯优点,功能强大,测量参数多,操作极其简单,一面世就受到全球植物学家的青睐,迅速占领全球市场

2005年,WALZ推出的M系列IMAGING-PAM,一个主机可以连接不同的探头(MICROSCOPY-,MICRO-,MINI-和MAXI-探头),分别在130×150 um、3.5×4.5 mm、24×32 mm或10×13 cm的面积上测量荧光成像。现在,只需一个主机连接不同的探头,即可满足从单细胞到全叶片,从分子生物学到生态学研究的全面需要

* 一个主机连接不同的探头可满足从单细胞到全叶片、从分子生物学到生态学的不同需求
* 全叶片光合作用分析(荧光成像),可测荧光诱导曲线并进行淬灭分析
* 可测快速光响应曲线(120 s内完成,比光合放氧和气体交换等技术快得多)
* 叶片光合作用的横向异质性检测
* 完全相同的条件下同时测量多个样品(植物、地衣、苔藓、微藻等)
* 遗传育种、突变株筛选的强大工具
* 不同的测量面积,不同的分辨率
* 可利用多孔板(如96孔板)做多个微藻样品的同时成像
* 胁迫损伤的早期检测
* 不连接显微镜即可测量绿色荧光蛋白(GFP)荧光
* 可测量叶片吸光系数

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