摘要：本发明公开了一种熔炼坩埚的真空负压自浇注装置，熔炼坩埚通过坩埚基座设置在固定法兰上，熔炼坩埚底部设有紫铜螺杆，紫铜螺杆的中心通孔连通到熔炼坩埚的底部；紫铜螺杆的下端头处，在固定法兰上设有负压腔，负压腔的下端口连接成型模具，成型模具上端口与紫铜螺杆的下端之间设有间隙，成型模具外套设有负压吸管，负压吸管通过固定法兰上的若干通孔与负压腔相连通。本发明从根本上解决了现有浇铸技术的不足，熔炼时负压腔与熔炼坩埚压力平衡，有着一定粘度的熔炼原料不会流到模具型腔内，浇铸时利用负压吸管经通孔将与负压腔通过间隙连通的模具型腔吸成负压，熔炼原料在保护气体的压力下缓缓流进模具型腔，自动完成铸模工作。
- 专利类型发明专利
- 申请人杭州大华仪器制造有限公司;
- 发明人杨扬;方学锋;杨晓虎;夏民荣;郑捷;
- 地址311401 浙江省杭州市富阳市东山路23号
- 申请号CN201010106862.4
- 申请时间2010年02月08日
- 申请公布号CN101797635B
- 申请公布时间2012年04月18日
- 分类号B22D18/06(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
