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  • 教育装备采购网首页 > 知识产权 > 专利 > CN106527062A

    一种曝光机及其图像偏移防治方法和系统

      摘要:本发明实施例提供一种曝光机及其图像偏移防治方法和系统,通过在轴承和升降杆相连接的一端设置由透明材料制成的防尘罩,便于通过人工或机器视觉方式检测轴承是否已磨损,从而有效防治因轴承磨损掉落残渣而导致的光阻图像产生局部偏移的现象,可以有效提高黄光制程中经光刻蚀得到的玻璃基板的良品率,从而提高黄光制程的生产效率。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司;
    • 发明人温俊斌;
    • 地址518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民营工业园惠科工业园厂房1、2、3栋,九州阳光1号厂房6、7楼
    • 申请号CN201710020601.2
    • 申请时间2017年01月11日
    • 申请公布号CN106527062A
    • 申请公布时间2017年03月22日
    • 分类号G03F7/20(2006.01)I;