摘要：1.本外观设计产品名称为投影式光显屏蔽机；2.本外观产品属于低辐射信息处理设备，用于处理信息涉密的机构；3.本外观设计要点：本外观设计要点在于产品的整体造型；4.本外观设计产品指定主视图为授权后公告视图。
- 专利类型外观专利
- 申请人安方高科电磁安全技术(北京)有限公司;
- 发明人马占义;曹刚;王彪;于天荣;郭林;
- 地址100094 北京市海淀区中关村永丰产业基地丰德东路9号
- 申请号CN201230625189.5
- 申请时间2012年12月13日
- 申请公布号CN302467934S
- 申请公布时间2013年06月12日
- 分类号14-03;
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