晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统
ALD for surface passivation of c-Si solar cells
应用：
1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积
2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积
3.大规模生产的应用
4.工业全自动生产设备
5.高产量：高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)
特征：
1.良好的厚度＆均匀性好的Al2O3薄膜
2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积
3.具体化的ALD机械装置
4.全集成工艺模块
5.操作过程简单
6.自动式操作
