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德国Inglas TIR100-2红外热发射率测定仪

德国Inglas TIR100-2红外热发射率测定仪
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德国Inglas
TIR100-2
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详细说明

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪详细介绍:

  TIR 100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪是一款紧凑的手持式设备,可精确,无损地测量几乎所有表面的热辐射率。

  测量元件,操作控制,控制设备和评估电子设备也都节省了空间,并放置在手持式设备中。仪器操作仅需电源。该设备的操作通过发光的触摸屏显示器实现。

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪功能:

  用100°C半球形黑体辐射器漫射物体表面。在属于仪器的校准标准的校准值的帮助下,测量反射的红外辐射并将其转换为发射率的绝/对值。结果立即显示在设备的触摸屏上。

  详细的说明手册介绍了测量过程的物理基础以及进行精确测量的方法。

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪应用领域

  TIR100-2可用于涂覆过程后的质量控制,或用于实验室的研究和开发。

  玻璃的测量结果相当等于

  符合EN 12898的结果。

  涂层箔作为建筑箔的发射率是

  在prEN 15976之后测量。

德国Inglas TIR100-2红外热发射率测定仪

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪的一些典型的应用:

  镀膜玻璃的鉴定:1.镀膜玻璃的质量控制

  热保护绝缘玻璃的的低U-值取决于玻璃镀膜的低发射率,TIR 100对镀膜的质量控制以及实验室中开发新镀膜非常有用。

  涂有涂层的太阳能集热板的鉴定:

  太阳能收集器生产的质量控制

  优质的太阳能收集器的效率取决于收集器表面非产低的发射率,因此TIR 100也是此行业质量控制的理想设备

  涂层箔的鉴定

  卫星热镀层鉴定

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪技术数据

  测量范围温度。发射率<0,020…0,980

  重复精度(精度)+-0.005(lowE).. +-0,01(hiE)

  光谱范围2,5μm-40μm

  辐射能8μm

  黑体温度100°C

  测量时间5秒

  测量点约 5毫米

  额定功率 130 V在...上230 V?/ 115 V?

  RS232接口(可选的打印机输出)

  尺寸230毫米x 140毫米x 120毫米

  重量2.0公斤

  参考(校准标准)带肋的铝块,具有稳定性

  低辐射率:高精度研磨铝

  高发射率:黑光陷阱

  低发射面的参考发射率典型值?0,012

  模具高发射面的典型值> 0.96

  出厂时,所有参考文献均已单独调整至物理实验室(GB)的校准标准。

电压范围90伏交流电– 260伏交流电
额定功率240 VAC 130 W 120 VAC 260瓦
测量范围 作为校准标准
测量不确定度+-0,005(lowE)…+ -0,01(hiE)
光谱范围2,5 – 40μm
λ辐射能量的7.8微米
散热器温度100°摄氏度
测量持续时间大约 5秒
测量点大约 5毫米
界面 USB-B
尺寸230毫米x 140毫米x 120毫米
重量TIR100-2:大约 2,0公斤

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪的测量原理

  样品在100°C的温度下经受热辐射。黑体半球形辐射器用于封装样品,以确保均匀照明。以一定角度观察反射的红外辐射,并将其转换为数值。然后根据高和低发射率参考标准的校准表绘制该值。

  使用TIR时,只需按一下按钮即可完成所有这些操作。

德国Inglas TIR100-2红外热发射率测定仪

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪测量方法:

德国Inglas TIR100-2红外热发射率测定仪

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪标配包括:

  TIR100-2型号,您可以选择电源电压(115V或230V)。

  二合一校准标准:抛光铝的低发射率值侧和黑体阱的高发射率侧。

  校准标准的校准证书,可追溯至柏林(GER)的Physikalisch-Technische Bundesanstalt(PTB)的参考标准,参考。编号73213 PTB 16和73214 PTB16。有效期为两年。

  可上锁的便携式硬质铝制外壳,可轻松存储和运输TIR100-2和标准件。

  英文印刷版手册。

  TIR100-2红外热发射率测定仪,TIR100-2热辐射率仪可选配:铝箔支架

  箔片固定器是一种实用的设备,可将薄涂层的箔片样品(和其他纺织品)平整且均匀地夹持在固定器板的整个表面上,如图所示。

  两侧各使用两个磁夹将样品锁定在适当的位置。

  使用箔架的另一个好处是可以帮助样品在测量过程中保持室温更长的时间。当使用薄材料(如薄涂层的箔)时,这将有助于减少波动,从而提高发射率结果的准确性。

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