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高精度微纳米力学测试系统

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KLA
G200
KLA
高教
美国
详细说明

产品简介:

所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据,要求对加载到样品上的载荷有精确的控制。KLA新一代 G200 型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置,从而保证测量的精确度,独特的设计避免了横向位移的影响。  KLA新一代 G200型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性,包括方便的测试到整个样品台,精确的样品定位,方便的确定样品位置和测试区域,简便的样品高度调整,以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的升级带来极大的方便。

特点和优势

- 广受赞誉的高速测试选项可以和G200 型纳米压痕仪配合使用, 包括DCMII 和 XP 模块以及样品台

- 快速进行面积函数和框架刚度校对

- 精确和可重复的结果, 完全符合 ISO14577 标准

- 通过电磁驱动, 可在无与伦比的范围内连续调整加载力和位移

- 结构优化, 适合传统测试或全新应用

- 模块化选项, 适合划痕测试, 高温测试和动态测试

- 强大的软件功能, 包括对试验进行实时控制, 简化了的特殊测试方法的开发

应用:

- 半导体器件, 薄膜

- 硬质涂层, DLC薄膜

- 复合材料, 光纤, 聚合物材料

- 金属材料, 陶瓷材料

- 无铅焊料

- 生物材料, 生物及仿生组织等等

功能:

- 增强的载荷加载系统

- 增强的纳米划痕测试

- 强化的微摩擦磨损测试功能

- 粘弹性材料性能测量功能

- 恒应变速率测试/可变应变速率测试

- 连续刚度测量功能

- 增强的原位纳米力学测试功能

- C高精度成像定位功能

- 接触刚度成像功能

主要指标:

位移测量方式电容位移传感器
压头总的位移范围≥ 1.5 mm
Max.压痕深度> 500 um
位移分辨率0.01 nm
加载模式电磁力
Max.载荷 (标配)> 500 mN
载荷分辨率50 nN
高载荷选件10 N/50 nN
DCM 压痕选件10 mN/1 nN
框架刚度≥ 5 x 106 N/m
纳米样品台200 mm X 200 mm
定位精度1 um
定位控制模式全自动遥控
总的放大倍率250 倍和 1000 倍

  

选项:

- Max.划痕力:1000mN

- Max.划擦深度:40um

- Max.磨损面积:400mm2

- Max.划痕速度:100um/s

- 定量测试薄膜和基底的结合强度

- 表面抗划擦能力

- 连续循环划痕摩擦

- 压头保护功能

- 划痕面积和体积

- 实现线性变载或恒定载荷模式下划痕测试

- 连续刚度测试功能

- 材料的粘弹性测试功能

- 薄膜测试功能

- 功能-提供三维成像功能

- 功能-提供四维成像功能

- 自定义测试功能

- 数据极速采集功能

- 双子星多维度磨损附件

- 测试附件

- 高精度成像附件

- 500°C 加温附件




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