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真空工艺过程气体分析仪

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真空工艺过程气体分析仪
北京英格海德分析技术有限公司
北京
详细说明

真空工艺过程气体分析仪

Process Gas Analyser

真空工艺过程气体分析仪

技术参数

  HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。

应用:

 · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
 · 真空涂覆/ 等离子刻蚀
 · 沉积溅射
 · 污染物研究
 · 基本压力辨别
 · 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析
 · 除气/烘烤/泵效能
 · 反应室/过程气体污染物

特点:

 · 简洁的桌上型,移动推车或控制台架结构
 · Direct re-entrant流孔板,差式泵,以达到最适宜的灵敏度
 · 连续取样从10-4mbar至1mbar.
 · 高灵敏度(最优可至5ppb),质量数可选至1000amu
 · 软离子化技术,分析复杂有机物,或表观MS研究
 · 稳定性好(24h之上,峰高变化小于±0.5%)
 · MASsoft软件控制,或由局域网进行多个系统控制
 · 气动阀自动控制;出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置
 · 自动、同时数据取得、分析,实时显示、报警

 

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