台式三维原子层沉积系统ALD
原子层沉积（Atomic layer deposition, ALD）是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此，它是一种真正的“纳米”技术，以控制方式实现纳米的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性，因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
| 美国ARRADIANCE公司的GEMStarXT系列台式ALD系统，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStarXT全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计， 使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%，而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖，可实现对高达1500：1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。 |
| GEMStarXT 产品特点： *300℃ 铝合金热壁，对流式温度控制 *175℃温控150ml前驱体瓶，200℃温控输运支管 *可容纳多片4，6，8英寸样品同时沉积 *可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体 *标准CF-40接口 *可安装原位测量或粉末沉积模块等选件 *等离子体辅助ALD插件 *多种配件可供选择 | GEMStarXT 产品型号： GEMStarXT-S： *大8英寸/200 mm基片沉积（4'和6' 可选） *单路前驱体输运支管，4路前驱体瓶接口 *可升为等离子体增强ALD GEMStarXT-D： *大8英寸(200mm)基片沉积（4'和6' 可选） *双路前驱体输运支管，8路前驱体瓶和CF-40接口 *可升为等离子体增强ALD |
| GEMStarXT-P： *大8英寸/200mm基片沉积（4'和6 '可选） *双路前驱体输运支管，8路前驱体瓶和CF-40接口 *装备高性能ICP等离子发生器 13.56 MHz 的等离子源非常紧凑，只需风冷，高运行功率达300W。 *标配3组气流质量控制计（MFC）控制的等离子气源线，和一条MFC控制的运载气体线，使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。 |
新产品发布：
| GEMStarNanoCUBE： *大100 mm 立方体样品 沉积（4'和6' 可选） *单路前驱体输运支管， 2路前驱体瓶接口 *主要用于3D多孔材料，以及厚样品的沉积 |
| 丰富配件： | ||
| 多样品托盘： *多样品夹具，样品尺寸（8", 6", 4"）向下兼容。 *多基片夹具，多同时容纳9片基片。
| 温控热托盘： *可加热样品托盘，高温度500℃，可实现热盘-热壁复合加热方式。
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尾气处理系统：
| 臭氧发生器：
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粉末旋转沉积罐模块： 配合热壁加热方式，进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。
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手套箱接口： 可从侧面或背面接入手套箱，与从底部接入手套箱不同，不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面，反应过程中不对手套箱有加热效应，不影响手套箱内温度。 | ||
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应用案例
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应用领域
国内外用户
已发表文献
1. LoïcAssaudet al. Systematic increase of electrocatalyticturnover over nanoporous Ptsurfaces Prepared by atomic layer deposition. J. Mater. Chem. A (2015) DOI: 10.1039/c5ta00205b
2. XiangyiLuoet al. Pdnanoparticles on ZnO-passivatedporous carbon by atomic layer deposition: an effective electrochemical catalyst for Li-O2 battery. Nanotechnology(2015) 26, 164003. DOI:10.1088/0957-4484/26/16/164003
3. HengweiWang, et al. Precisely-controlled synthesis of Au@Pdcore–shell bimetallic catalyst via atomic layer deposition for selective oxidation of benzyl alcohol. Journal of Catalysis (2015) 324, 59–68. DOI: 10.1016/j.jcat.2015.01.019
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5. FatemehSadat MinayeHashemiet al. A New Resist for Area Selective Atomic and Molecular Layer Deposition on Metal−Dielectric Patterns. J. Phys. Chem. C (2014), 118, 10957−10962. DOI: 10.1021/jp502669f
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7. Jin Xie, et al. Site-Selective Deposition of Twinned Platinum Nanoparticles on TiSi2 Nanonetsby Atomic Layer Deposition and Their Oxygen Reduction Activities. ACS Nano (2013), 7, 6337–6345. DOI: 10.1021/nn402385f
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