QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司

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  • 产品总数:21
  • 四电弧高温单晶生长炉
    四电弧高温单晶生长炉

    简介:四电弧高温单晶生长炉日本GES公司生产的四电弧高温单晶生长炉,采用电弧放电的高温材料合成方法,非常适合生长化学性质活跃但熔点极高(一般在3000摄氏度左右)的金属间化合物,包括含有稀土元素(或者金属铀)的二元及四元金属间化合物,例如UGe2,UPt3,V3Si,URu2Si2,RE2Co17,CePd...

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    品牌:GES 围观:378次 产地:日本 产品详情
  • 微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
    微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD

    简介:微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD),通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司的CYRANNUS等离子技术解决...

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    品牌:iplas 围观:16次 产地:德国 产品详情
  • 新一代高性能激光浮区法单晶炉
    新一代高性能激光浮区法单晶炉

    简介:新一代高性能激光浮区法单晶炉-LFZQuantumDesignJapan公司推出的激光浮区法单晶生长系统传承日本理化研究所(RIKEN,CEMS)的先进设计理念,新一代高性能激光浮区炉(型号:LFZ-2kW)具有更高功率、更加均匀的能量分布和更加稳定的性能,将浮区法晶体生长技术推向一个全新的高度!应用...

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    品牌:Quantum Design Japan 围观:224次 产地:日本 产品详情
  • 高压氧气氛退火炉
    高压氧气氛退火炉

    简介:高压氧气氛退火炉产品简介德国SciDre公司推出的高压氧气氛退火炉温度可达850°C,压力可达150个大气压。可用于高压晶体生长的料棒前处理。也可用于含氧晶体的高温退火处理。炉体直径15mm,长度200mm,温度均匀。温度、压力可定制更高。应用领域可用于高压晶体生长的料棒前处理。也...

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    品牌:SciDre 围观:318次 产地:德国 产品详情
  • 高温高压光学浮区炉
    高温高压光学浮区炉

    简介:高温高压光学浮区炉德国SciDre公司推出的高温高压光学浮区法单晶炉能够提供2200–3000℃以上的生长温度,晶体生长腔压力可达300bar,甚至10-5mbar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。应用领域适用于生长各种超导材料单晶,介...

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    品牌:SciDre 围观:397次 产地:德国 产品详情
  • 电弧熔炼炉-Model BJ5
    电弧熔炼炉-Model BJ5

    简介:电弧熔炼炉产品简介美国ThermalTechnology的BJ5电弧熔炼炉可以有效的应用于粉末熔炼、电弧铸造,金属和非金属、化合物材料的合成和致密化处理。BJ5电弧熔炼炉操作方便,可靠性高,通用性强,同时提供的超高温和极其纯净的熔炼环境。用于高纯度熔炼:因为其简单、易用的内部结构,B...

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    品牌:美国Thermal Technology 围观:246次 产地:北京 产品详情
  • TT 放电等离子烧结炉-SPS/DCS
    TT 放电等离子烧结炉-SPS/DCS

    简介:近年来直流型SPS加工技术(DirectCurrentSintering)得到广泛的研究和推广,这种新型的SPS技术采用直流电源系统,简化了系统的复杂性,同时也大大降低了硬件成本。另外相较于脉冲电流,直流电源系统可以无间断的在样品内产生内热,因此大大的压缩了加工时间。近年,美国ThemralTec...

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    品牌:美国Thermal Technology 围观:258次 产地:美国 产品详情
  • 美国Thermal Technology公司热压炉
    美国Thermal Technology公司热压炉

    简介:热压炉热压炉HP200LinktoMSUFall2007article热压炉HP20Linktomodelspecs扩散粘结用热压炉:工作温度1450℃,压力100吨,钼热区单元24''X24''X30''系统尺寸:15'(L)X9.5'(W)X12.2'(H)Linktopressrelease碳化硅SiC热压炉型号压力/吨位样品空间(英寸)HP2210tonsФ4X4(H)HP5225tons

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    品牌:美国Thermal Technology 围观:266次 产地:北京 产品详情
  • 激光加热基座晶体生长炉
    激光加热基座晶体生长炉

    简介:激光加热基座晶体生长炉法国Cyberstar公司生产的激光加热基座晶体生长(Laser-heatedpedestalgrowth,LHPG)是在提拉法晶体生长基础上发展起来的、一种以激光为热源的无坩埚单晶纤维生长工艺,因局部熔化特性,亦可称其为浮区熔化晶体生长。激光加热基座晶体生长炉(LHPG)具有无坩...

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    品牌:Cyberstar 围观:473次 产地:法国 产品详情
  • 高精度光学浮区法单晶炉
    高精度光学浮区法单晶炉

    简介:高精度光学浮区法单晶炉QuantumDesignJapan公司推出的高温光学浮区法单晶炉,采用镀金双面镜(避免四镜加热带来的多温区点)、高反射曲面设计,温度可达2100℃-2200℃,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......应用领域:■...

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    品牌:Quantum Design Japan 围观:636次 产地:日本 产品详情
  • 活塞-圆筒高温高压装置
    活塞-圆筒高温高压装置

    简介:活塞-圆筒高温高压装置美国地球深度(Depthsoftheearth)公司QuickPress活塞圆筒高温高压合成装置,体积小巧(只需120×60×60cm的工作区域),操作简便,提供大腔体静高压样品环境。压强可达4Gpa,温度可达2000℃,样品尺寸长度可达5mm,温度场均一稳定。该仪器广泛应用于高温高压...

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    品牌:Depths of the earth 围观:559次 产地:北京 产品详情
  • 多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEM
    多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEM

    简介:多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是MoorfieldNanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台,满足各种高精度的喷金或电极生长需求。除了溅射金属电极外,nanoEM还具有极大的拓展空间,虽然作为台式设备,nanoE...

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    品牌:Moorfield 围观:54次 产地:英国 产品详情
  • 台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL
    台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL

    简介:台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL台式精准气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL可用于二维材料以及衬底、样品在特定氛围中的高精度热处理,也可用于其他有高精度热处理要求的方向。MoorfieldNanotechnology将样品、衬底等材料的热处理上升到与纳米材料的制备同样的技术高度...

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    品牌:Moorfield 围观:24次 产地:英国 产品详情
  • 台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH
    台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH

    简介:台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度,而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题,MoorfieldNanotechnol...

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    品牌:Moorfield 围观:40次 产地:英国 产品详情
  • 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD
    台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD

    简介:台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVDNanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖级科研团队的长期合作中获得的丰富经验使该系列产品具有非常高的性能。特别是针对石墨烯、碳纳米管等不同的应用进行了针对性的优化。...

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    品牌:Moorfield 围观:35次 产地:英国 产品详情
  • 台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD
    台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD

    简介:台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验,MoorfieldNanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等多所著名大学顶级科研团队的具体需求,经过不懈努力推出了...

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    品牌:Moorfield 围观:48次 产地:英国 产品详情
  • 电弧等离子体沉积系统
    电弧等离子体沉积系统

    简介:电弧等离子体沉积系统日本ADVANCERIKO公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量,可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径,活性好,产量...

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    品牌:ADVANCE RIKO 围观:240次 产地:日本 产品详情
  • 脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
    脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

    简介:脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统美国BlueWave公司是一家半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统,包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的...

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    品牌:BlueWave 围观:238次 产地:美国 产品详情
  • 自动热处理炉 / 陶瓷热处理炉
    自动热处理炉 / 陶瓷热处理炉

    简介:美国ThermalTechnology自动热处理炉(APFAutomaticProcessingFurnacesystems)与陶瓷热处理炉(CPFCeramicProcessingFurnacesystems)可实现全自动、无人值守操作,最高可定制温度达2500℃。工件热处理循环时升温速率100℃/min,降温速率可达300℃/min。氢气炉/高真空炉可选。可在炉顶...

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    品牌:美国Thermal Technology 围观:225次 产地:北京 产品详情
  • 金属纳米胶体/纳米颗粒制备仪
    金属纳米胶体/纳米颗粒制备仪

    简介:NTi产品可分为金属纳米胶体制备仪、纳米颗粒制备仪两个系列。工作原理PWE(PulsedWireEvaporation脉冲金属丝蒸发)技术是利用瞬时的脉冲电流,使金属丝瞬时蒸发,形成金属蒸气,蒸气凝结形成纳米颗粒。PWE技术适用于所有金属、合金。金属纳米胶体制备仪主要特点:-仅需一步,直接形...

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    品牌:Nano Technology 围观:434次 产地:北京 产品详情