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高精度光学浮区法单晶炉
简介:高精度光学浮区法单晶炉QuantumDesignJapan公司推出的高温光学浮区法单晶炉,采用镀金双面或4面镜、高反射曲面设计,高温度可达2100℃-2200℃,系统采用冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......应用领域:■高温超导体■介电和磁性材料...
¥0台式三维原子层沉积系统
简介:台式三维原子层沉积系统ALD原子层沉积(Atomiclayerdeposition,ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以控制方式实现纳米...
¥0活塞-圆筒高温高压装置
简介:活塞-圆筒高温高压装置美国地球深度(Depthsoftheearth)公司QuickPress活塞圆筒高温高压合成装置,体积小巧(只需120×60×60cm的工作区域),操作简便,提供大腔体静高压样品环境。压强可达4Gpa,温度可达1800℃,样品尺寸长度可达5mm,温度场均一稳定。该仪器广泛应用于高温高压...
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