原子层沉积设备资讯大全

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近期向三星电子供货原子层刻蚀（ALE(Atomiclayeretch)）和区域选择原子层沉积（ASD(areaselectivedeposition)）设备.设备由2个工艺模组和传送模组构成的Clustertype，工艺整...

2022-06-20 围观1507次 [方案] 高教

原子层沉积设备（ALD）用于新型半导体产品（保护涂层用）应用于半导体领域设备中使用的配件保护涂层的原子层沉积设备，此设备可以给常保养配件做防腐蚀及防等离子电弧作用的...

2022-02-25 围观3643次 [应用] 高教

MoS2(二硫化钼)，由于其优异的带隙结构(直接带隙为1.8eV)，高表面体积比和的场效应晶体管(FET，fieldeffecttransistor)性能，已成为·具代表性的二维过渡金属硫族化合物（T...

2022-01-17 围观7843次 [原理] 高教

继曲面之后，推出了折叠式的智能手机，目前这种形态因素竞争为市场的焦点。三星电子的GalaxyFold和GalaxyZFlip采用了画面内折的形态因素,华为的MateX采用了外折的新OutFold...

2021-08-10 围观4475次 [原理] 高教

3月18-20日SemiconChina2014在上海浦东国际展览中心落幕，东方中科集成科技股份有限公司(以下简称：东方集成)作为Semicon会员单位，同德国SENTECHInstrumentsGmbH一起向广大新老客户、合作展示我...

2014-04-25 围观651次 [报道] 全领域