摘要：本发明公开了一种填充环及流量控制系统，填充环包括由大圆柱体和小圆柱体构成的阶梯状圆柱体，阶梯状圆柱体内设有轴向通孔，大圆柱体的外端轴向切十字槽。流量控制系统包括主通道，主通道内设有分流器，主通道的后端装有阀座，填充环的大圆柱体装到主通道内，小圆柱体装到阀座的通道内。填充环结构简单、使用方便，并能有效的减少气体扰动。
- 专利类型发明专利
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人李凌峰;杨晨光;魏欣;
- 地址100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
- 申请号CN201010570363.0
- 申请时间2010年11月26日
- 申请公布号CN102022401A
- 申请公布时间2011年04月20日
- 分类号F15D1/00(2006.01)I;G05D7/00(2006.01)I;
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京公网安备11010802043465号
