摘要：本实用新型提供一种雾化清洗装置，包括冷却结构、谐振雾化结构和气动雾化结构，所述谐振雾化结构固定于所述气动雾化结构之上，所述冷却结构固定于所述谐振雾化结构之上，所述谐振雾化结构包括换能器和谐振器，所述谐振器上设有排液孔，所述气动雾化结构上开有第二进液孔、第二进气孔和雾化喷射口，所述排液孔与所述第二进液孔相连，所述第二进液孔与所述雾化喷射口连通，所述第二进气孔和所述雾化喷射口连通。本实用新型的雾化清洗装置结构简单，集成度高，实现了喷射超微雾化液滴，工艺易实现，克服单纯的雾化机制产生大尺寸液滴或是喷射流，对65纳米及其以下工艺的硅片表面的图形造成严重损伤的问题。
- 专利类型实用新型
- 申请人北京七星华创电子股份有限公司;
- 发明人刘效岩;吴仪;初国超;王浩;
- 地址100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
- 申请号CN201320053203.8
- 申请时间2013年01月30日
- 申请公布号CN203124323U
- 申请公布时间2013年08月14日
- 分类号B08B3/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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