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    采用两步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层的制备方法

      摘要:本发明涉及一种采用两步法在Nb基超高温合金表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层的制备方法,首先采用磁控溅射的方法在Nb基超高温合金表面沉积不同厚度的Zr膜,然后采用Si-Y扩散共渗的方法在沉积Zr膜后的试样表面制备抗氧化Zr-Y改性硅化物渗层。本发明解决了Nb基多元超高温合金高温抗性能差的技术难题,能够获得均匀、致密,Zr含量可控且与基体结合紧密的Zr-Y改性硅化物渗层。采用1250℃恒温氧化实验进行检测,共渗后试样经5~200h恒温氧化后的氧化膜致密,少见脱落,表明本发明所提供的渗层具有优异的高温抗氧化性能。本发明所制备的渗层均匀、致密,Zr含量可控且与基体结合紧密,同时具有操作方便、成本低廉等一系列优点,适于生产和应用。
    • 专利类型发明专利
    • 申请人西北工业大学;
    • 发明人郭喜平;李轩;乔彦强;
    • 地址710072 陕西省西安市友谊西路127号
    • 申请号CN201410497699.7
    • 申请时间2014年09月25日
    • 申请公布号CN104313541A
    • 申请公布时间2015年01月28日
    • 分类号C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C10/44(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I;